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專業(yè)技術(shù),電感耦合等離子體質(zhì)譜儀ICPMS 8900 加裝氬氧裝置

發(fā)表時(shí)間:2025-07-19      點(diǎn)擊次數(shù):34

電感耦合等離子體質(zhì)譜儀ICPMS 8900 加裝氬氧裝置的作用

ICP-MS 8900 加裝 氬-氧混合氣裝置(Ar-O? 反應(yīng)氣模塊)的核心作用可以概括為“去污、增敏、抗干擾”:


消除碳沉積

有機(jī)溶劑或高碳樣品在等離子體中裂解成碳微粒,會(huì)沉積在采樣錐、截取錐及離子透鏡表面,導(dǎo)致信號漂移、靈敏度下降。加入少量 O?(通常 5–20 % v/v)可把碳瞬間氧化為 CO/CO? 氣體帶走,有效延長錐口壽命并保持長期穩(wěn)定性。


打破多原子離子干擾

? 用 O? 作為反應(yīng)氣,可將諸如 ??Ar12C?、??Ar1?O? 等干擾離子轉(zhuǎn)化為質(zhì)量數(shù)更高的氧化物或氧簇,從而與待測離子 m/z 錯(cuò)開,提高 ?2Cr、??Fe 等易受干擾元素的準(zhǔn)確度。

? 對半導(dǎo)體級高純試劑、超痕量金屬分析尤其重要,可把背景從 ppt 級降到亞 ppt 級。


提升特定元素靈敏度

某些元素(如 S、P、Si)在純氬模式下電離效率低;引入 O? 后形成 MO? 或 MO?? 產(chǎn)物離子,避開低質(zhì)量區(qū)密集背景,實(shí)現(xiàn)更高響應(yīng)。


擴(kuò)展樣品類型

允許直接進(jìn)樣含有機(jī)相(甲醇、IPA、酮類)或高 TDS(總?cè)芙夤腆w)樣品,無需額外稀釋或消解;配合 8900 的高鹽接口,可測 25 % TDS 的鹽水或海水


軟件與硬件一體化

8900 的八級桿反應(yīng)系統(tǒng)(ORS?)內(nèi)置三路質(zhì)量流量控制器,可在方法中按時(shí)間程序自動(dòng)切換 Ar、He、O?,實(shí)現(xiàn)“無干擾-高靈敏”雙模式同一次運(yùn)行完成。


一句話總結(jié)

加裝氬-氧裝置后,8900 不僅不怕“有機(jī)、高鹽、高碳”樣品,還能把傳統(tǒng)難測的 ?2Cr、??Fe、31P、32S 等元素的檢出限再拉低一個(gè)數(shù)量級,是超痕量金屬、半導(dǎo)體、高純化學(xué)品及復(fù)雜環(huán)境樣品的“標(biāo)配”升級。


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